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        HiPIMS-高功率脈沖磁控濺射.png
        
					
					
				
        
			
        
			
        
				
        
					
        HiPIMS-高功率脈沖磁控濺射
        
					
        DTVC5200
        
				
        
				
				
        
					
        主要應用
        
					
        
					
        高能沉積，提升金屬離化率，帶來更佳結合力和硬度。
        

        高端品質，不破壞工件或刃口，涂層表面光潔致密。
        

        靈活鍍膜，可濺射市面所有常見硬質涂層材料。
        

        高效生產，單爐時間最快4.5h,更經濟、更靈活生產。
        
					
        
				
        
				
				
			
        
		
        
		
		
        
		
		
        
		
		
        
			
			
			
        
				
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